Additive Fertigung (Eigenbau)
Typ:
| Eigenentwicklung
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Funktion:
| Verformen von Mini/Mikrotropfen durch Hochspannung mit Live-Beobachtung. Umfangreiche Freiheitsgrade zur Positionierung der Probe bzw. der Elektroden zur Verformung
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Einsatz:
| Realisierung individuell verformter Mini/Microtropfen als Linsenelemente, bspw. auf Fasern oder zur Anpassung der Abstrahlcharakteristik von LEDs
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Typ:
| Galvoscanner Thorlabs GSM002-EC/M
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Funktion:
| Ablenkung eins Laserstrahles in X- und Y-Richtung
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Einsatz:
| Aushärtung von Strukturen auf planaren und gekrümmten Substraten
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Typ:
| Erweiterung eines Zeiss Auflichtmikroskops
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Funktion:
| Maskenabbildung zur Herstellung von Mastern für die Nanoimprint Lithografie
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Einsatz:
| Nano-Strukturierung von Photoresisten |
Typ:
| Wintech Pro6500 mit 1 µm abgebildeter Pixelgröße
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Funktion:
| Strukturierung von Photopolymeren mittels eines Mikrospiegelarrays
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Einsatz:
| Additive Fertigung kleiner Strukturen
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Typ:
| Universal Robot 3; Vermes MDS 3280+
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Funktion:
| Gezielte Abscheidung einzelner Flüssigkeitstropfen
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Einsatz:
| GRIN, Bedrucken von planaren sowie nicht planaren Oberflächen
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Typ:
| Eigenentwicklung (Ricoh MH2820 Druckkopf für zwei Materialien)
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Funktion:
| Abscheiden kleiner Materialtröpfchen mit dem Piezo-Elektrischen Inkjet Verfahren in Kombination mit einer Roboterkinematik
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Einsatz:
| Lokaler Materialauftrag für die additive Fertigung
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Typ:
| Eigenentwicklung (Wintech Pro 4500, Hexapod HXP100P-MECA und Thermografiekamera Velox_1310k)
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Funktion:
| Strukturierung von Photopolymeren mittels eines Mikrospiegelarrays
Submikrometer Positionierung mit Hexapod
Analyse der beim Prozess ausgesendeten Infrarotstrahlung |
Einsatz:
| Herstellen kleiner optisch funktionaler Strukturen mit Mehrfachstrukturierung und thermische Untersuchungen des Aushärteprozesses
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Additive Fertigung (Kommerziell)
Typ:
| DMP 2850
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Funktion:
| Miniatur-Reinraum für und mit Spezialdrucksystem (Tintenstrahl)
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Einsatz:
| Drucken von OLEDs bzw. von funktionalen Schichten
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Keyence Agilista 3100
| Eigenschaften:
| Drucktechnik: MJM / Inkjet
Min. laterale Struktur: 40 µm (x), 15 µm (y)
Min. Lagenhöhe: 5 - 15 µm (benetzungsabhängig)
Material: AR-M2, AR-S1
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| Funktion:
| 3D-Drucker mit transparentem Baumaterial und wasserlöslichem Stützmaterial
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| Einsatz:
| Additive Herstellung von Optikelementen, bspw. mit monolithischem Design, d.h. mit integrierten mechanischen Funktionen (Befestigung)
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Typ:
| EVG 620 (inkl. Coater & Developer)
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Funktion:
| Komplettanlage für Nanoimprint Lithografie und Maskenabbildung
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Einsatz:
| Replizierung von Nanostrukturen
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Typ:
| Lyncee DHM R2100
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Funktion:
| Holographische Topologiemessung mit zwei Wellenlängen
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Einsatz:
| Qualitätskontrolle von Nanostrukturen, die z. B. mit Hilfe der Nanoimprint Lithografie-Anlage gefertigt wurden.
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Typ:
| Zygo NewView 8300 Weißlichtinterferometer
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Funktion:
| Messung von Oberflächenprofilen mit hoher Auflösung
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Einsatz:
| Kontrolle von Fertigungs- und Polierverfahren
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ZEISS PRISMO
| Typ:
| Taktiles Koordinatenmessgerät
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| Einsatz:
| hochgenaues Vermessen von Werkstücken
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ZEISS O-INSPECT
(Prototyp)
| Typ:
| Optisch/Taktiles Koordinatenmessgerät
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| Einsatz:
| hochgenaues, optisches Vermessen von Werkstücken
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Typ:
| LightTec Reflet
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Funktion:
| Winkelaufgelöste Messung der Abstrahlcharakteristik von Proben (bspw. LEDs mit 3D-gedruckter Linse)
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Einsatz:
| Analyse des Streuverhaltens von 3D-Druckmaterialien/Oberflächen; Verifizierung der Abstrahlcharakteristik 3D-gedruckter Optiken (Vergleich mit Simulationsergebnissen)
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Typ:
| Eigenentwicklung
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Funktion:
| Messung des Brechungsindexprofils von 3D-gedruckten Optiken über Totalreflektion
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Einsatz:
| Charakterisierung des Aushärteverhaltens der 3D-Druckmaterialien für besseres Prozessverständnis und -optimierung
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